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About Us회사소개

회사연혁

고객님들과 함께 걸어온
(주)명성씨엠아이의 역사적인 발자취입니다.

2020`s

2024년

  • 모범납세자 국무총리상 표창(행정안전부)
  • 국내특허등록 2건(등록번호 : 10-2646156 외 1건)

2023년

  • 환경부 <물∙대기산업 경쟁력 강화를 위한 주요기자재 국산화 기술개발사업> 연구과제 수행
    [NOx/SOx, VOCs 처리 스크러버 용액의 제조 및 처리 시스템 국산화 기술개발]
  • 단일모재 덕트 FM인증 획득(FM 4922)
  • 삼성 건설그룹 파트너 기업 우수상

2022년

  • 제2공장 신축등록(충청북도 음성군)
  • 국내 특허 등록 1건(등록번호 : 10-2405868)

2021년

  • 중소기업벤처부 기술혁신형 중소기업(이노비즈) 확인
  • 국내 특허 등록 5건(등록번호 : 10-2204061 외 4건)

2020년

  • 대한민국건설환경기술 대상 수상(환경부 장관상)
  • 품목별 원산지인증수출자 인증 (한-중, 한-베트남,FM FRP DUCT, ELBOW,DAMPER,EXP.JOINT 4품목)
  • 국내 특허 등록 5건(등록번호 : 10-2074975 외 4건)
  • 국내 디자인 등록 1건(등록번호 : 30-1050026)
  • 국내 저작권 등록 3건(등록번호 : C-2020-046362 외 2건)

2010`s

2019년

  • 국내 특허 등록 2건(등록번호 : 10-2029218 외 1건)
  • 국내 저작권 등록 1건(등록번호 : C-2019-036372)

2018년

  • 중국시안 공장 FM 등록
  • (사)한국산업기술진흥협회 <학연 공동 기업부설연구소 연계 후속 연구개발 지원사업> 연구과제 수행
    [오염가스 저감을 위한 Wet Scrubber 전용 3D-Filter 모듈 상품화 개발]
  • 한국에너지기술원 패밀리기업 선정
  • 국내 특허 등록 3건(등록번호 : 10-1839512 외 2건)
  • 국내 디자인 등록 2건(등록번호 : 30-0955202 외 1건)

2017년

  • FM인증 획득(FM4910,FM4922)
  • 환경부 <글로벌탑환경기술개발사업> 연구과제 수행
    [반도체 공정 배가스(PFCs,SF6,NF3) 저감을 위한 촉매시스템 후처리 기술 개발]
  • 해외 특허 출원 2건(출원번호 : 201711257860.3 외 1건)
  • 국내 특허 등록 1건(등록번호 : 10-1811375)

2016년

  • IBK 기술 강소기업 선정
  • 산업통산자원부 신기술(NET)인증(제 1047호)
  • 환경부 <글로벌탑환경기술개발사업> 연구과제 수행
    [저농도 N2O 저감용 촉매제조 및 실증화 기술 개발]
  • 삼성물산㈜ <공동기술개발사업>연구과제 수행
    [선회류 다공 Venturi와 Grid 모듈 type의 반도체 배가스 처리 시스템 개발]
  • 중소벤처기업부, 해외규격인증획득지원사업 선정
  • 중국 법인설립(함양-명성 환보 과기 유한공사)
  • 베트남 법인설립(MYEONG SUNG VINA)
  • 국내 특허 등록 3건(등록번호 : 10-1587599 외 2건)

2015년

  • 삼성엔지니어링㈜ <공동기술개발사업> 연구과제 수행
    [반도체 공정에서 발생하는 복합오염물질 및 백연 동시 제거 가능한 고효율 후처리 시스템]
  • 삼성엔지니어링㈜ <기술개발공모전> 최우수상 수상
  • 중소기업청 <산학연협력 기술개발사업> 연구과제 수행
    [반도체 공정에서 발생하는 복합 오염물질 제거용 고효율 후처리 시스템 소형화 개발]
  • 국내 특허 등록 2건(등록번호 : 10-1575187 외 1건)

2014년

  • ISO 인증획득(9001,14001)
  • 대기환경 전문공사업 등록(제250호)
  • 기업부설연구소 설립
  • 본사이전(경기도 김포시)
  • 공장확장이전(충청북도 음성군)

2013년

  • 기계설비공사업 취득

2011년

  • 벤처기업 확인(기술보증기금)

2000`s

2007년

  • 사업종목 추가 (환경플랜트,공해방지시설)

1990`s

1998년

  • ㈜명성씨엠아이 설립